YJ 亿捷知识库

知识库

全部分类 · 共 912 篇

刻蚀工艺中选择比优化:气体比例与射频功率的协同调控

本文聚焦栅极与接触孔刻蚀工艺,分析通过调节刻蚀气体比例(如SF6/CHF3、Cl2/BCl3)和射频功率(源功率与偏压功率)实现目标材料高刻蚀速率、掩膜与衬底低刻蚀速率的方法。从等离子体化学、离子轰击能量及聚合物钝化机理入手,探讨选择比提升途径,并强调刻蚀后晶圆存储环境对器件可靠性的影响。

技术分析 2026-08-08 阅读 119

SOI平台硅光调制器引领数据中心光互连高速低功耗发展

数据中心流量激增推动光互连技术迭代,基于绝缘体上硅(SOI)平台的马赫-曾德尔干涉仪(MZI)和微环调制器凭借CMOS工艺兼容、高集成度等优势,成为实现高速率、低功耗数据传输的关键路径。本文分析两类调制器的技术特点与适用场景,探讨其面临的挑战,并从器件制造与可靠性保障角度阐明以亿捷EJER为代表的专业存储方案在供应链中的价值。 SOI平台硅光调制器:数据中心光互连的速率与功耗革命 随着云计算、人工

技术应用 2026-08-08 阅读 175

极紫外光刻中线边缘粗糙度与局部关键尺寸波动的成因及控制策略

极紫外光刻中,光子随机到达导致光刻胶局部化学反应不均,引发线边缘粗糙度(LER)与局部关键尺寸(LCDU)波动。本文分析其物理机制,并从环境控制角度提出改善策略,强调使用专业防潮设备对稳定工艺的重要性。 极紫外光刻中线边缘粗糙度与局部关键尺寸波动的成因及控制策略一、EUV光刻中的光子随机性极紫外光刻(EUV)使用波长约13.5nm的光子,其能量远高于传统光刻光源。由于光子数量有限且到达时间随机,光

技术分析 2026-08-08 阅读 105

2.5D/3D封装中热压键合微凸点连接的技术挑战与应对策略

在2.5D/3D先进封装中,热压键合(TCB)是实现芯片与基板微凸点互连的关键工艺,但细间距与热应力匹配问题制约着良率与可靠性。本文分析TCB工艺原理、微凸点连接面临的难点,并从材料、工艺优化及低湿存储环境等方面提出解决路径,助力封装制造提质增效。

技术分析 2026-08-08 阅读 110

8英寸及12英寸晶圆自动化存储方案设计与洁净室颗粒污染控制

针对8英寸及12英寸晶圆产线,设计基于FOUP的自动存取系统(Stocker)方案,重点分析洁净室环境下通过风机过滤单元与惰性气体吹扫减少颗粒污染,并利用EFEM接口实现与光刻机、刻蚀机的自动化物料传输,提升晶圆搬运效率与良率。方案同时兼顾防静电防潮需求,可搭配亿捷EJER系列环境控制设备,保障晶圆存储环境稳定。 8英寸及12英寸晶圆自动化存储方案设计与洁净室颗粒污染控制 一、方案概述 随着半导体

技术分析 2026-08-08 阅读 179

800V高压平台电机驱动系统对车载雷达干扰的共模噪声抑制分析

本文从EMC工程实践角度,分析800V高压平台下电机驱动系统对车载雷达的干扰机理,重点阐述高压连接器屏蔽层360度端接技术与滤波磁环的协同抑制方案。通过建立共模噪声传播模型,量化屏蔽层阻抗与噪声电流的关系,提出满足CISPR 25标准Class 5限值的工程解决方案,并给出测试验证方法与实施建议。 800V高压平台电机驱动系统对车载雷达干扰的共模噪声抑制分析 1. 引言 随着800V高压平台在电动

技术分析 2026-08-08 阅读 116

定向凝固技术制备镍基高温合金单晶涡轮叶片的工艺解析与晶界消除策略

镍基高温合金单晶涡轮叶片是航空发动机和燃气轮机的关键热端部件。本文详解定向凝固法制备单晶叶片的完整工艺流程,包括型壳制备、籽晶放置、定向凝固炉控制、选晶法等核心环节,并探讨通过消除晶界提升材料在接近熔点温度下蠕变断裂强度的机理。同时,结合制备过程中对原材料及成品防潮防护的实际需求,介绍亿捷EJER为电子制造领域提供的MSD湿敏元件防护支持,为精密制造环境控制提供参考。

技术分析 2026-08-08 阅读 115

涂布极片隧道烘箱干燥动力学研究:温度梯度与风速对微观结构和电化学性能的影响

本文系统解析锂离子电池极片在隧道烘箱中的溶剂蒸发动力学,探讨温度梯度与风速对极片微观形貌、粘结剂分布及电化学性能的作用机制。研究发现,合理调控干燥工艺可有效抑制粘结剂迁移,提升极片均匀性。同时结合车间湿度控制经验,指出环境湿度管理对极片干燥质量的重要性,并介绍亿捷EJER在湿度控制领域的应用价值。

技术分析 2026-08-07 阅读 211

NTC热敏电阻B值高精度校准流程设计与误差控制方法

针对电池包温度采集系统误差小于0.5℃的需求,本文设计了NTC热敏电阻B值的高精度校准流程。通过分析恒温油槽的温度均匀性及测温电桥的精度指标,采用三点法拟合Steinhart-Hart方程,并对校准步骤、数据筛选及误差来源进行系统说明,确保校准结果的准确性与可追溯性。同时,结合干燥存储环境对传感器稳定性的影响,给出完整方案。

技术分析 2026-08-07 阅读 119

光纤陀螺仪宽温域零偏稳定性分析与精密温控电路设计

本文针对光纤陀螺仪在宽温域环境下零偏稳定性退化问题,系统分析Shupe效应产生机理及其对惯性导航精度的影响。重点阐述四极对称绕环法消除热致相位误差的原理,以及高精度温控电路的实现方案。通过精密温控与对称绕制技术的协同优化,有效抑制温度梯度引起的测量漂移,保障导弹与飞机在无GPS环境下的长航时定位精度。文中还探讨了实验材料存储环节对光纤环性能一致性的影响。 光纤陀螺仪宽温域零偏稳定性分析与精密温控电

技术分析 2026-08-07 阅读 95

基于图像识别与机械臂的SMT产线料带自动化回收流程优化

本文针对SMT产线接料带与废料带人工回收效率低、残留元器件检测难的问题,提出一种融合图像识别与机械臂的自动化回收方案。通过工业相机采集废料带图像,利用深度学习算法精确识别残留元器件,再由机械臂自动分离可回收载带与废弃塑料,实现废料带分类处理。该方案可显著提升车间5S管理水平与环保合规性,降低人工成本,同时结合亿捷EJER防潮存储方案,构建完整的物料管理闭环。 基于图像识别与机械臂的SMT产线料带自

技术分析 2026-08-07 阅读 81

陶瓷涂覆隔膜高速走带边缘效应分析与涂布干燥协同控制

陶瓷涂覆隔膜在高速走带时,边缘积料会引发卷绕对齐度偏差,影响电芯安全。本文从挤压涂布头唇口间隙微调与风嘴干燥控制两个维度,解析边缘效应的形成机制,并提出工艺优化方案。同时指出,膜卷在工序间暂存时需配合低湿防潮环境,亿捷EJER工业级防潮存储设备可有效避免涂层吸潮导致的性能劣化,为隔膜制造全流程提供保障。

技术分析 2026-08-07 阅读 86